联系人及邮箱：康朝阳 80020008@vip.henu.edu.cn；

放置地点：15号楼C座105室；

设备简介：型号：HEX80；生产厂家：英国Korvus；

仪器主要用途：

可以实现独立的磁控溅射沉积系统和电子束蒸发镀膜系统的功能；能够实现磁控溅射系统与电子束蒸镀系统的联合使用；可以实现同一模板，同一批次条件下的各种非金属氧化物，金属材料的连续沉积，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等)，氮化物膜（如TiN、ZrN、CrN等）和碳化物膜（如TiC等)，以及氧化物膜（如TiO等)。

主要规格及技术指标：

1. 真空室的极限真空度< 2x10-6 Torr；
2. 使用2个英国Korvus公司溅射靶枪，靶源直径尺寸为2 英寸，可兼容射频溅射，高功率脉冲与直流溅射、靶枪内设计有冷却管道，靶枪磁场优化设计，靶材利用率可达到40%；
3. 使用英国Korvus公司生产的电子束蒸发源，蒸发源支持坩埚方式加热材料，坩埚容量 1 cc，可适用于低熔点金属；也支持材料棒方式蒸发，材料棒直径要求2-4 mm，适合高熔点金属材料蒸发。蒸发源有集成水冷。